目前包括美国英特尔公司（Intel）、超微公司（AMD）以及摩托罗拉公司 （Motorola）在内的美国芯片制造商，现正与美国官方合作，试图开发新的极紫外线（EUV）光刻技术，好让半导体业者能够利用0．1微米以下的技术制程来设计芯片。

　　研究人员透露，一旦新技术研发成功，不只芯片运算速度会加快100倍，芯片容量也会比现有制程产品多出100倍。这再次验证了莫尔定律的准确。半导体界通称的莫尔定律，是由英特尔公司共同创办人莫尔（GorkonMoore）在35年前发表的观察结果，他认为芯片内的电晶体数目每隔18个月就会增加一倍，这项预测后来成为半导体业的研发准则。

　　目前芯片制造业者采用的光刻技术开始碰到瓶颈，全球晶片业龙头英特尔，寄望EUV能够延长莫尔定律的寿命，因此积极与美国能源部辖下的虚拟国家实验室（VNL）合作。虚拟国家实验室的成员有三个，分别是仙锹亚国家实验室、罗伦斯利物摩实验室以及罗伦斯柏克莱实验室。

　　虚拟国家实验室高层主管史杜伦指出，英特尔与超微当前生产的芯片中，速度最快仅1个十亿赫兹GHZ，未来利用EUV技术生产的芯片，速度可高达10个GHZ。同时参与此计划的民间财团EUVLCC主管葛文估计，业者大概将在2005年即可使用新技术。

　　这项计划是美国官方与民间企业有史以来最大的合作案，光是民间企业资助的经费就高达2．5亿美元。