图文：紫外线刻蚀技术制造的纳米芯片

    30年后，现有的用于制造硅芯片的光学投影技术将要达到最小的极限。幸运的是，科学家找到了制造下一代芯片的新的方法。

    电路的大小对于计算机工业来讲非常重要，因为它直接影响到计算机的运行速度。较小的电路可以被封装得更加紧密，使得数据传输的距离缩短所以处理时间也相应缩短。较短的处理时间意味着更快的运算速度，同时计算机设备也变得更小。

    芯片制造商使用光将设计好的电路投影到硅晶片上，然后象照片显影一样，通过显影在硅晶片上留下了印制电路。使用这种光学印制技术，最小的电路可以达到180纳米的宽度。要想利用现有的这种技术制造比这更小的电路就好象我们要用刷墙壁的滚筒来画头发丝一样的困难。新兴的紫外线投影技术给我们带了了新的希望。这种新技术使用波长为10到14纳米的紫外线来蚀刻电路。一个包括AMD、Intel、Motorola和虚拟国家实验室的研究协会的研究人员说他们已经向这种技术迈了一大步，他们已经使用这种紫外线蚀刻技术画出了只有50纳米宽的电路，只有人头发的1/200宽。

    研究人员们对在2005年之前把这项技术真正实现商业生产并不报很大希望。但是一旦投入生产，可以制造出是现在储藏容量1000倍的内存和功能比现在强大100倍的芯片。

    摘自：《大众科学》

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